濕製程微汙染監控：清洗製程

耗費預算和人力成本，無法作後續歷史資料追蹤

不論哪個產業，品質絕對是業者和消費者皆很在意的環節之一。尤其是半導體以及製造業產業鏈。隨著線寬愈作愈小，半導體零件清洗製程中，去離子水的潔淨度對於良率而言至關重要。然而，目前技術卻還是很難做到多點位濕製程材料的即時性微汙染監測。
若工廠端要同時進行多點量測，往往需耗費大量預算或人力成本。再者，現行相關檢測技術僅能記錄液體中是否有異物或異常等瑕疵，無法進一步協助使用者建立生產品質履歷，作後續歷史資料追蹤，更遑論比對良率與製程液體微汙染物之關聯性。

FlowVIEW可以為生產研發提供以下分析：

• Online粒子異常監控：快速偵測DIW粒子異常，及時觸發警報機制。
• 趨勢分析與源頭追蹤：比對歷史數據，協助定位污染來源與發生時間。
• 製程水質影響評估：分析粒子變化對良率與製程穩定度的影響。
• 多點數據整合：統整監測點資料，提升異常判斷效率。

半導體的清洗製程微汙染檢測

解決方案：濕製程微汙染自動化監控解決方案

清洗製程中，透過MLPC掌握DIW（去離子水）品質，確保製程穩定。如下圖所示，7月31日至8月1日間，DIW粒子數異常上升，導致水槽粒子濃度增加。管理人員藉由MLPC系統即時偵測異常並啟動應變，有效防止製程問題擴大。

後續調查發現，異常源自未預警的廠內施工造成DIW污染。本事件凸顯即時監控與部門協調的重要性，也驗證高靈敏粒子監控系統在品質管理中的關鍵角色。