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透過獨家流體光學顯影技術與自動化分析,提供高解析奈米級監測,廣泛應用於各領域,有效提升製程穩定性與產品品質
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應用案例
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生產製程潔淨
還原製程真實狀態:PI 原液免稀釋監控,精準辨識 NMP 殘留引發之凝膠與氣泡
在先進半導體製程中,濕製程設備所涉及的化學液體純度與穩定性,已成為影響良率與製程視窗的重要關鍵。相較於傳統僅於進料或成品階段進行檢測,IPQC 強調於製程進行中即時掌握材料狀態,及早發現異常並回饋至製程條件調整。透過即時、連續的監控機制,IPQC 能有效降低製程漂移與不可逆缺陷的發生風險,是先進製程中不可或缺的品質控管環節。
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提升濕製程良率:關鍵清洗階段的微汙染預警與防範
半導體應用品質與良率,一直是台灣半導體與製造業者最重視的課題。尤其在半導體零件的清洗製程中,去離子水的潔淨度對產品良率有著關鍵性的影響。然而,目前的技術仍難以實現對多點位濕製程材料的即時與現場監測。
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