Product Feature
產品特色
- 直接整合至營運中機台
- 自動化多點位分析
- 24 小時監控微奈米粒子數量變化
- 減少無效稼動，提升清洗製程效率
- 每年最高可節省 72%成本
- 顯影劑、混酸去光阻液、銅/鋁酸、DI water 檢測效果佳
Advantage
產品優勢
缺陷預判
自動示警，微奈米粒子出現微汙染狀況，潔淨程度達警示標準，可提前更換濾心，預防產品出現狀況
最佳化建議
智慧化交叉比對濾心尺寸、壽命、保養週期，評估製程潔淨度。並提供最佳化建議
建立穩定製程標準
產線機台之清潔維持穩定的製程標準，確保此一製程不會成為客戶highlight的一環
半導體全產業應用
晶圓製造
封裝測試
產品優勢
- 一機多點位切換
- 自動化微奈米子即時監控
- 比對良率 & 污染物關係
- 彈性檢測排程自動預警
產品應用
- 水洗製程（DI WATER）
- 蝕刻製程（金屬蝕刻液）
- 脫膜製程 （剝膜液、脫膜劑）
- 微影製程 （銅酸、鋁酸）
導入客戶
- 台灣知名半導體封裝廠
- 晶圓製造廠
- 台灣面板大廠
Specification
產品規格
| 量測範圍 | 0.1 μm - 100 μm |
|---|---|
| 可容許誤差範圍 | 1200-40000 counts/ml @ 5% Coincidence Error |
| 校正 | 追溯至 JIS-B9925 |
| 通訊模式 | RS485/Modbus, 4~20 mA |
| 外箱 / 管路 / 取樣介面 | 不銹鋼 / PFA / 石英 |
| LED燈指示 | 電源 / 故障 / 正常取樣 / 異常警告 |
| 取樣溫度 / 壓力 | 0-70 °C / 150 PSI |
Product Discription
產品描述
