邑流微測表示，現有製程監測設備到50奈米以下就有瓶頸並且分析資訊不足，使得漿料裡的奈米粒子的不純物成為晶圓濕製程中的良率殺手，嚴重影響產品良率。
目前業界主要的污染粒子監控技術是利用雷射光照射在經稀釋數百倍以上的製程漿料溶液，透過光束於粒子散射訊號進行粒子大小與數量的量測；此法除受到液體流動時產生的奈米氣泡干擾，造成計數不正確，另是經稀釋過後的樣本溶液已失去液態原樣，無法評估引發關鍵晶圓缺失的漿料中粒子聚集成團的狀況與機率，且設備雖號稱可量到20奈米，實際上因光學訊號過低，50奈米以下的數值缺乏穩定度，不敷先進製程所需。
邑流微測研整硬體、軟體及成像分析服務，特殊設計的硬體實驗操作快速，經軟體成像後可得奈米粒子顆粒尺寸、大小分佈、形狀、分散和聚合參數、漿料組成成份; 且不限液態樣本濃度、酸鹼度，不需稀釋等前置作業；量測能力可達3奈米，並達到影像解析度20萬倍以上。
邑流微測提供全球獨有液態奈米結構材料觀測及成像分析服務，並以具有不受限的臨場（In-situ）觀測技術領先市場，與客戶密切合作，加以具專有領域知識，增強客戶工業製造流程; 提升生產能力，生產過程工藝優化、生產設備監控管理、降低失控風險，擴展精密儀器與軟體分析資訊間的協同作用，掌握第四次工業革命及其技術帶來的巨大商機，奠基於先進材料製程的開發、研究、觀測 與控製將會是重要關鍵。
邑流微測在半導體先進濕製程漿料的分析檢測已佈建完整上中下游的經驗網絡，自上游漿料製造商、硬體機台／耗材供應商、至下游的晶圓代工廠如台積電，以及測試驗證分析公司如宜特，皆與邑流微測建立夥伴合作關係，並規劃長期產品開發藍圖，以搶得第四次工業革命的商業先機席位。
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原文出處：https://www.chinatimes.com/realtimenews/20190705003738-260410?chdtv
