能源環境工程
因應各產業需求,市面上粒徑分析儀選擇非常很多,如何快速選擇能協助手邊問題的工具?以下內容不要錯過!
即便是同一種材料,在不同粒徑下也會具備不同的性質,例如常見的QLED式電視便是藉由控制粒子在不同粒徑,使其產生不同光色。故對於材料研發團隊來說,確切掌握材料粒徑的相關資訊,是絕對材料表現至關重要的環節之一。
粒徑分析儀選擇很多,常見的粒徑分析儀從奈米至微米皆有。不僅種類多,量測原理、適用的也不盡相同,研發人員如何作出最符合研發需求的粒徑分析儀,不僅有助於提升實驗結果,亦能避免走過多的冤枉路。
以下精要彙整目前常見的粒徑分析儀相關資訊,協助大家初步快速篩選出自己適合的分析法希望對於大家有所幫助。
如需更詳細資訊,歡迎直接與我們聯繫(03-6589006#122)。
量測範圍
優點
缺點
樣品資訊
沉降法
微米
成本較低
粒徑
雷射繞射法
需消耗掉較多樣品量
影像分析
真實成像、眼見為憑
可同時量測形狀真圓度等參數
無法量測小粒徑
粒徑、真圓度、氣泡
電子顯微鏡
奈米
提供奈米級粒子影像
粒徑、形狀
動態光散射
所需樣品量少但可取得粒子分布資訊
顆粒濃度容易影響檢測結果
粒徑、粒子分布
推薦閱讀:粒徑分析介紹:了解AI影像式粒徑分析設備,突破產業困境
同樣是粒徑分析,在半導體濕製程中,使用者須透過粒徑大小、分布狀況監控微粒子污染的情況,加上量測的粒子尺寸常為奈米等級,故使用動態光散射是目前普遍且相對合適的做法。只是現有類似機台設備大多僅提供一通道,換句話說,如果今天使用者有2處液體需要檢測,變需要2台機台、3處則須3台以此類推。變相而言,光是檢測就需要大量成本。
目前業界最常見的粒徑分析儀,主要都以雷射繞射為主,此種方式的分析每次皆能分析到上萬顆粒子,在仰賴訊號資訊的狀況下,此種分析法的結果具備一定程度的代表性。
如要更精準把握粒徑分析的準確度,能夠確切辨識粒子輪廓、數量甚至真圓度,進而分析粒子種類,那麼,影像式的粒徑分析儀便是很好的一個選擇。舉凡細胞、藻類、微生物的真實樣貌、PI膠是否混入雜質等,皆能透過影像式粒徑分析儀進行檢測。雖然此一檢測方式目前僅能檢測1µm以上的微汙染,但檢測益體內是否存在氣泡、毛屑、灰塵等已綽綽有餘,故生醫製藥、PCB面板廠便非常推薦此一粒徑分析儀。【瀏覽更多影像式粒徑分析儀應用】
▲粒徑分析儀選擇:影像式粒徑分析
▲每個顆粒皆能真實成像並進行AI分類分析
除了粒徑分析以外,界達電位(Zeta potential)也是一個重要參數。界達電位的絕對值越高,粒子間維持較高的電荷斥力會使分散安定性越好。值得一提的是,量測界達電位的方法有許多種,除了一般溶液樣品量測以外,日本大塚科技的ELSZ系列更具備量測高鹽度、不透光、固體表面電位等特別的量測應用。
推薦閱讀:界達電位量測原理介紹,固態樣品表面電位(surface zeta potential)量測方法與實踐
▲高界達電位的絕對值,可維持粒子間較高的電荷斥力有助於分散安定性
▲大塚科技ELSZ系列(圖片由大塚科技提供)
這裡也想特別提到,CMP Slurry等化工漿料產業,需求多著重尺寸檢測,大家習慣使用sizer進行量測,評估適用性時,除考量濃度範圍、粒子尺寸適用範圍、產品顏色是否導致機台檢測失準等因素,建議還可納入「是否具備線上檢測」之功能。此一粒徑分析儀選擇可即時檢測液態樣品,避免容易出現質變的檢測樣品因為移動或靜止等過程,產生質地改變進而影響檢測或實驗準確性,是目前較特殊的檢測技術。
【更多線上粒徑分析儀選擇,歡迎索取資訊 03-6589006#16】
邑流微測 FlowVIEW 採用先端雷射感測技術,搭配客製化多通管路,研發半導體奈米級濕製程「線上多通道粒子檢測系統」。顯影劑、混酸去光阻液、銅 / 鋁酸、DI water 檢測效果佳
AI瑕疵檢測能夠有效解決傳統AOI檢測受限於瑕疵樣本不一、樣本數不足、誤判率高以及需人工複檢等瓶頸,加上液態材料檢測技術,對於品質要求日益嚴苛的電子業、環境工程而言,絕對是未來產業升級更好的選擇。
過去在廢水及汙水處理的過程中,常運用光訊號式counter搭配光學顯微鏡進行微生物種類及數量檢測,但往往遇到許多技術上的限制,須仰賴人工土法煉鋼比對,影響檢測結果的客觀性。
因應各產業需求,市面上粒徑分析儀選擇非常很多,如何快速選擇能協助手邊問題的工具?以下內容不要錯過!
常見粒徑分析儀類型有哪些?
即便是同一種材料,在不同粒徑下也會具備不同的性質,例如常見的QLED式電視便是藉由控制粒子在不同粒徑,使其產生不同光色。故對於材料研發團隊來說,確切掌握材料粒徑的相關資訊,是絕對材料表現至關重要的環節之一。
粒徑分析儀選擇很多,常見的粒徑分析儀從奈米至微米皆有。不僅種類多,量測原理、適用的也不盡相同,研發人員如何作出最符合研發需求的粒徑分析儀,不僅有助於提升實驗結果,亦能避免走過多的冤枉路。
以下精要彙整目前常見的粒徑分析儀相關資訊,協助大家初步快速篩選出自己適合的分析法希望對於大家有所幫助。
如需更詳細資訊,歡迎直接與我們聯繫(03-6589006#122)。
量測範圍
優點
缺點
樣品資訊
沉降法
微米
成本較低
粒徑
雷射繞射法
需消耗掉較多樣品量
粒徑
影像分析
真實成像、眼見為憑
可同時量測形狀真圓度等參數
無法量測小粒徑
粒徑、真圓度、氣泡
電子顯微鏡
奈米
提供奈米級粒子影像
粒徑、形狀
動態光散射
所需樣品量少但可取得粒子分布資訊
顆粒濃度容易影響檢測結果
粒徑、粒子分布
推薦閱讀:粒徑分析介紹:了解AI影像式粒徑分析設備,突破產業困境
粒徑分析儀選擇
同樣是粒徑分析,在半導體濕製程中,使用者須透過粒徑大小、分布狀況監控微粒子污染的情況,加上量測的粒子尺寸常為奈米等級,故使用動態光散射是目前普遍且相對合適的做法。只是現有類似機台設備大多僅提供一通道,換句話說,如果今天使用者有2處液體需要檢測,變需要2台機台、3處則須3台以此類推。變相而言,光是檢測就需要大量成本。
目前業界最常見的粒徑分析儀,主要都以雷射繞射為主,此種方式的分析每次皆能分析到上萬顆粒子,在仰賴訊號資訊的狀況下,此種分析法的結果具備一定程度的代表性。
如要更精準把握粒徑分析的準確度,能夠確切辨識粒子輪廓、數量甚至真圓度,進而分析粒子種類,那麼,影像式的粒徑分析儀便是很好的一個選擇。舉凡細胞、藻類、微生物的真實樣貌、PI膠是否混入雜質等,皆能透過影像式粒徑分析儀進行檢測。雖然此一檢測方式目前僅能檢測1µm以上的微汙染,但檢測益體內是否存在氣泡、毛屑、灰塵等已綽綽有餘,故生醫製藥、PCB面板廠便非常推薦此一粒徑分析儀。【瀏覽更多影像式粒徑分析儀應用】
▲粒徑分析儀選擇:影像式粒徑分析
▲每個顆粒皆能真實成像並進行AI分類分析
界達電位(Zeta potential)的重要性
除了粒徑分析以外,界達電位(Zeta potential)也是一個重要參數。界達電位的絕對值越高,粒子間維持較高的電荷斥力會使分散安定性越好。值得一提的是,量測界達電位的方法有許多種,除了一般溶液樣品量測以外,日本大塚科技的ELSZ系列更具備量測高鹽度、不透光、固體表面電位等特別的量測應用。
推薦閱讀:界達電位量測原理介紹,固態樣品表面電位(surface zeta potential)量測方法與實踐
▲高界達電位的絕對值,可維持粒子間較高的電荷斥力有助於分散安定性
▲大塚科技ELSZ系列(圖片由大塚科技提供)
這裡也想特別提到,CMP Slurry等化工漿料產業,需求多著重尺寸檢測,大家習慣使用sizer進行量測,評估適用性時,除考量濃度範圍、粒子尺寸適用範圍、產品顏色是否導致機台檢測失準等因素,建議還可納入「是否具備線上檢測」之功能。此一粒徑分析儀選擇可即時檢測液態樣品,避免容易出現質變的檢測樣品因為移動或靜止等過程,產生質地改變進而影響檢測或實驗準確性,是目前較特殊的檢測技術。
【更多線上粒徑分析儀選擇,歡迎索取資訊 03-6589006#16】